平面拋光機(jī)屬于一種精細(xì)研磨拋光設(shè)備，被磨、拋資料放于平整的研磨盤(pán)上，研磨盤(pán)逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng)，批改輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤(pán)作相對(duì)工作磨擦，來(lái)到達(dá)研磨拋光目的。

　　平面拋光機(jī)廣泛用于光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種資料的單面研磨拋光。平面拋光機(jī)的研磨盤(pán)平面度是研磨的基準(zhǔn)，是得到精細(xì)工件平面的確保。

　　在研磨的過(guò)程中，研磨盤(pán)的平面度會(huì)下降，主要原因研磨盤(pán)的表里線速度不同，磨損不共同形成。為了堅(jiān)持平面拋光機(jī)的效果，需要定期修整研磨盤(pán)。平面拋光機(jī)研磨盤(pán)的修整辦法有兩個(gè)。

　　通過(guò)修整機(jī)構(gòu)修面后，也可獲得較好的平面度，這種修整的原理與車床原理共同，研磨盤(pán)旋轉(zhuǎn)，一個(gè)可前后運(yùn)動(dòng)的刀在刀桿的帶動(dòng)對(duì)研磨進(jìn)行切削獲得平面，必須到達(dá)±0.001mm生產(chǎn)出來(lái)的產(chǎn)品才干更好的確保質(zhì)量。